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半導體超純水設備

簡要描述:半導體超純水設備采用預處理、反滲透系統、EDI系統、拋光混床系統將水中的導電介質幾乎給除掉,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物除掉至很低程度的水處理設備。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-10-19
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詳細介紹
品牌凱旭凈化產地國產
產品新舊全新

產品簡介:

半導體超純水設備采用預處理、反滲透系統、EDI系統、拋光混床系統將水中的導電介質幾乎給除掉,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物除掉至很低程度的水處理設備。


超純水系統設備的脫鹽核心部件為反滲透膜組件,超純水系統設備通常由預處理部分,反滲透主機部分,EDI系統及后處理部分共同組成


EDI工作原理:

1、 樹脂截留水中的溶存離子。

2、被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負極方向運動。

3、 陽離子透過陽離子膜,排出樹脂 / 膜之外。

4、陰離子透過陰離子膜,排出樹脂 / 膜之外。

5、濃縮了的離子從廢水流路中排出。

6、去離子水從樹脂 / 膜內流出。


半導體超純水設備產品特點:

1、自動化程度高 ,具有自動保護功能。

2、膜組件為復合膜卷制而成 , 表現出更高的溶質分離率和透過速率。

3、能耗低 , 水利用率高 , 運行成本低。

4、結構合理 , 占地面積少。

5、系統無易損部件 , 無須大量維修 。


主要用途:

1、超純材料和超純試劑的生產和清洗。

2、電子產品的生產和清洗。

3、電池產品的生產。

4、半導體產品的生產和清洗。

5、電路板的生產和清洗。

6、其他高科技精細產品的生產。

 
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